专利详情

专利名称	聚四氟乙烯大面积漫反射参考板及其制造方法
申请号	CN200910144165.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101614588	公开（授权）日	2009.12.30
申请（专利权）人	中国科学院安徽光学精密机械研究所	发明（设计）人	沈政国;张黎明;韩慧达
主分类号	G01J3/02(2006.01)I	IPC主分类号	G01J3/02(2006.01)I;B29C43/18(2006.01)I;B29C43/58(2006.01)I
专利有效期	聚四氟乙烯大面积漫反射参考板及其制造方法至聚四氟乙烯大面积漫反射参考板及其制造方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种聚四氟乙烯大面积漫反射参考板及其制造方法，其特征在于：包括金属框架，框架内侧壁上端固定安装有一圈金属固定托架，漫反射工作面、底板、托板从上到下依次排列安装在框架内；框架上端面安装有略宽于框架的边沿，框架下端面四边安装有固定条，固定条通过托板上的通孔与金属固定托架固定连接。本发明提供的聚四氟乙烯大面积漫反射参考板强度好、重量轻、操作方便、灵活；利用已有模具可制作不同尺寸聚四氟乙烯大面积漫反射参考板，不受模具限制。该板适于实验室和野外使用，可根据需要安装在不同的平台上以拓展使用范围。该板广泛应用于实验室、卫星上、场地替代辐射定标、野外地物光谱测量及激光捕获目标、导引武器命中、激光测距和激光能量检测等。