专利详情

专利名称	一种用于光刻机的浸没控制装置
申请号	CN201210103398.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102621818A	公开（授权）日	2012.08.01
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	李金龙;胡松;赵立新;李兰兰;盛壮
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	一种用于光刻机的浸没控制装置至一种用于光刻机的浸没控制装置	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种用于光刻机浸没控制装置，该装置为在投影透镜组末端元件和硅片间设置的浸没控制装置，所述的浸没控制装置包括：盖板、外构件、内构件，盖板为环形板，其上由中心向外沿径向依次开有注液口、出液口、进气口；外构件为带有阶梯形状的环形板；内构件为环形版，其外侧为阶梯形状，内侧为与投影物镜末端元件形状相匹配的锥形，其下部沿径向向外依次开有：出液下环槽、环形均压槽，其上部沿径向向外依次开有扇形槽、注液孔、出液上环槽，其中出液上环槽与出液下环槽通过均布的通孔连接。本发明该装置能够在投影透镜组末端元件和硅片间的缝隙中输送液体，并保证液体无泄漏的液体传送及密封控制装置。