专利详情

专利名称	一种SiO₂减反射薄膜及其制备方法
申请号	CN201210097416.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102617045A	公开（授权）日	2012.08.01
申请（专利权）人	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	发明（设计）人	宋伟杰;兰品军;李佳;鲁越晖;杨晔;谭瑞琴
主分类号	C03C17/23(2006.01)I	IPC主分类号	C03C17/23(2006.01)I
专利有效期	一种SiO₂减反射薄膜及其制备方法至一种SiO₂减反射薄膜及其制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种SiO2减反射薄膜，包括光伏玻璃衬底以及依次涂覆在光伏玻璃衬底上的10nm-30nm厚的第一SiO2致密层、50nm-300nm厚的SiO2纳米空心颗粒层和填充在SiO2纳米空心颗粒层中SiO2纳米空心颗粒之间孔隙中的第二SiO2致密物；第二SiO2致密物的填充总量等同于5nm-30nm厚的第一SiO2致密层中SiO2致密物的量。该薄膜具有优良的减反射性能、耐擦拭性能和耐久性。本发明还公开了该制备方法：在光伏玻璃上制备第一SiO2致密层，再制备SiO2纳米空心颗粒层并填充第二SiO2致密物，经高温处理得到SiO2减反射薄膜。该方法操作简单，适合工业化大规模应用。

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