共掺杂改性硼酸钆锂闪烁晶体及其制备方法
- 申请号:CN200910054214.6
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:上海硅酸盐研究所中试基地;中国科学院上海硅酸盐研究所
- 公开(公开)号:CN101597798
- 公开(公开)日:2009.12.09
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 共掺杂改性硼酸钆锂闪烁晶体及其制备方法 | ||
申请号 | CN200910054214.6 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101597798 | 公开(授权)日 | 2009.12.09 |
申请(专利权)人 | 上海硅酸盐研究所中试基地;中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明(设计)人 | 潘尚可;杨帆;任国浩;丁栋舟;陆晟;张卫东 |
主分类号 | C30B29/22(2006.01)I | IPC主分类号 | C30B29/22(2006.01)I;C30B15/00(2006.01)I |
专利有效期 | 共掺杂改性硼酸钆锂闪烁晶体及其制备方法 至共掺杂改性硼酸钆锂闪烁晶体及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明属于闪烁晶体材料领域,具体涉及一种共掺杂改性硼酸钆锂闪烁晶体及其制备 方法,该共掺杂改性硼酸钆锂闪烁晶体的化学式为:Li6CexNyGd1-x-yB3O9-δ/2Mδ,其中,M选 自以下元素中的一种或两种:F、Cl、Br和I;N选自以下元素中的一种或两种:Sc、Y、 La和Lu;所述Li元素、Gd元素和B元素中的至少一种以特殊同位素的形式存在;其中0 <x≤0.2,0≤y<1,0≤δ≤0.1,且y和δ不同时为0,其制备方法为:原料经过混合、固 相合成、化料,在单晶生长炉中通过提拉法生长制备成单晶形态。本发明共掺杂改性硼酸 钆锂闪烁晶体以Ce3+离子为发光中心,锂、钆和硼元素是以锂-6、钆-155、钆-157或硼-10 同位素的一种或其组合的形式存在,起到与被探测中子产生核反应的作用。 |
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