专利详情

专利名称	一种3D微混合微流控芯片的制作方法
申请号	CN201110131510.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102240534A	公开（授权）日	2011.11.16
申请（专利权）人	中国科学院化学研究所	发明（设计）人	江龙;韩建华;张建平;李兴长
主分类号	B01J19/00(2006.01)I	IPC主分类号	B01J19/00(2006.01)I;B01L3/00(2006.01)I;G01N21/25(2006.01)I
专利有效期	一种3D微混合微流控芯片的制作方法至一种3D微混合微流控芯片的制作方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种3D微混合微流控芯片的制作方法。所述方法包括如下步骤：(1)将所述3D微混合微流控芯片的微通道图形通过激光照排制成掩膜；(2)将负性光刻胶涂覆在载玻片上，将所述掩膜覆盖在所述负性光刻胶上；将覆盖有所述负性光刻胶和掩膜的载玻片在紫外光源下进行曝光并经显影后得到负性光刻胶阳膜；(3)向所述负性光刻胶阳膜上浇铸聚二甲基硅氧烷主剂和固化剂的混合浆体，固化后揭去所述负性光刻胶阳膜得到聚二甲基硅氧烷芯片A；(4)按照步骤(1)至步骤(3)制作聚二甲基硅氧烷芯片B；(5)将所述聚二甲基硅氧烷芯片A与聚二甲基硅氧烷芯片B紧密贴合后进行键合即得所述3D微混合微流控芯片。所述方法操作简单，成本低廉，制作周期短，重现性好；非常适宜于加工数十微米的微观结构。