并行复频域光学相干层析成像方法与系统
- 申请号:CN201010116626.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号:CN101832817A
- 公开(公开)日:2010.09.15
- 法律状态:实质审查的生效
- 出售价格: 面议 立即咨询
专利详情
专利名称 | 并行复频域光学相干层析成像方法与系统 | ||
申请号 | CN201010116626.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101832817A | 公开(授权)日 | 2010.09.15 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 黄炳杰;步鹏;王向朝;南楠 |
主分类号 | G01J3/45(2006.01)I | IPC主分类号 | G01J3/45(2006.01)I;G01N21/45(2006.01)I |
专利有效期 | 并行复频域光学相干层析成像方法与系统 至并行复频域光学相干层析成像方法与系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种并行复频域光学相干层析成像方法与系统,该方法是在并行频域光学相干层析成像方法的基础上,通过用倾斜的反射光栅代替干涉参考臂的参考平面反射镜,并使入射参考光的一级衍射光沿原入射光路逆向返回,从而在二维光电探测器阵列获得的二维频域干涉条纹沿并行探测方向上引入线性空间相位调制,即在二维频域干涉条纹中引入空间载波;然后对含有空间载波的二维频域干涉条纹沿并行探测方向进行傅里叶变换,接着依次通过频域滤波窗滤波、坐标平移和沿频谱方向的逆傅里叶变换的过程,得到二维复频域干涉条纹,最后再通过沿光频方向的逆傅里叶变换获得待测物体层析图。本发明具有结构简单,成像速度快,只需一次曝光即可获得待测物体层析图。 |
交易流程
-
01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
-
05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
- 07 交付证书
过户资料
平台保障
1、源头对接,价格透明
2、平台验证,实名审核
3、合同监控,代办手续
4、专员跟进,交易保障
- 用户留言
暂时还没有用户留言