一种用于侧视层析合成孔径雷达的三维聚焦成像方法
- 申请号:CN200810106548.9
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院电子学研究所
- 公开(公开)号:CN101581780
- 公开(公开)日:2009.11.18
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种用于侧视层析合成孔径雷达的三维聚焦成像方法 | ||
申请号 | CN200810106548.9 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101581780 | 公开(授权)日 | 2009.11.18 |
申请(专利权)人 | 中国科学院电子学研究所 | 发明(设计)人 | 洪文;谭维贤;王彦平;吴一戎 |
主分类号 | G01S7/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01S7/02(2006.01)I;G01S13/90(2006.01)I |
专利有效期 | 一种用于侧视层析合成孔径雷达的三维聚焦成像方法 至一种用于侧视层析合成孔径雷达的三维聚焦成像方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明一种用于侧视层析合成孔径雷达的三维聚焦成像方法, 将采集到的侧视层析合成孔径雷达原始回波数据变换到斜距向波数 域和方位向波数域中,对变换后的信号进行高程向频谱无混叠恢复, 将信号变换到斜距向、方位向和高程向三维波数域中;通过坐标映 射将三维波数域中的信号变换到直角坐标系中;通过傅立叶逆变换 以及图像空间选择重建出包含成像区域地距向、方位向和高程向空 间位置信息以及幅相信息的三维微波图像。该方法能够在高程向采 样数较少、高程向合成孔径中心分布任意或成像区域大小任意的情 况下,精确地重建出成像区域的三维微波图像,同时无需几何校正。 该方法还能用于下视、下侧视层析SAR等成像观测几何中三维微波 图像重建。 |
交易流程
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选取所需
专利 -
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可交易 - 03 签订合同
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