专利详情

专利名称	一种耐高温碱性阴离子交换膜及其制备和应用
申请号	CN201010207020.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102299283A	公开（授权）日	2011.12.28
申请（专利权）人	中国科学院大连化学物理研究所	发明（设计）人	孙公权;柳鹤;金巍;王素力
主分类号	H01M2/16(2006.01)I	IPC主分类号	H01M2/16(2006.01)I;H01M8/02(2006.01)I;C08F126/06(2006.01)I;C08F8/44(2006.01)I;C08L39/04(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)I;C08L71/08(2006.01)I;C08L81/06(2006.01)I;C08J5/22(2006.01)I
专利有效期	一种耐高温碱性阴离子交换膜及其制备和应用至一种耐高温碱性阴离子交换膜及其制备和应用	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种耐高温碱性阴离子交换膜及其制备和应用，包括聚R基咪唑的合成、季铵化、共混膜铸膜溶液的制备及成膜。将溶解后，R基为C1-C10的链状或环状的单烯烃，在自由基引发剂的作用下发生聚合反应，得到聚R基咪唑，将得到的聚R基咪唑溶解，加入C1-C6的一取代卤代烷烃，使之在3-N上发生季铵化；取上述固体加入水中，升温并磁力搅拌使之溶胀、溶解，取聚苯并咪唑、聚酰亚胺、聚醚醚酮、聚醚砜中的一种或几种，加入极性有机溶剂中，将上述两种溶液在加热条件下共混，形成乳液后平铺于玻璃板上，程序升温制模。本发明所述膜具有易成膜、电导率高、机械柔韧性好、热稳定性和电化学稳定性好的特点。