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一种半导体器件及其制造方法

  • 申请号:CN201010215124.3
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN102299053A
  • 公开(公开)日:2011.12.28
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种半导体器件及其制造方法
申请号 CN201010215124.3 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102299053A 公开(授权)日 2011.12.28
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 梁擎擎;钟汇才;朱慧珑
主分类号 H01L21/02(2006.01)I IPC主分类号 H01L21/02(2006.01)I;H01L23/373(2006.01)I
专利有效期 一种半导体器件及其制造方法 至一种半导体器件及其制造方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种半导体器件及其制造方法,通过去除牺牲衬底或SOI衬底中的底层硅并形成碳纳米管的替代衬底,并在碳纳米管的衬底结构上的半导体层上形成器件结构,由于在沿着碳纳米管的空管方向,其具有很好的散热性能,从而减小器件的自加热效应,进而提高了器件的整体性能。

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