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一种红外焦平面阵列及其制作方法

  • 申请号:CN201110273965.4
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN102998002A
  • 公开(公开)日:2013.03.27
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种红外焦平面阵列及其制作方法
申请号 CN201110273965.4 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102998002A 公开(授权)日 2013.03.27
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 闫建华;欧文;欧毅
主分类号 G01J5/08(2006.01)I IPC主分类号 G01J5/08(2006.01)I;H01L27/146(2006.01)I
专利有效期 一种红外焦平面阵列及其制作方法 至一种红外焦平面阵列及其制作方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供一种红外焦平面阵列,包括多个红外探测单元,所述红外探测单元包括衬底、光敏元件和聚能微透镜,所述光敏元件悬空于衬底上,光敏元件的光敏吸收层覆盖在光敏元件的电路层上,所述的聚能微透镜悬空于光敏元件的光敏吸收层上方,通过微透镜支撑柱与光敏元件连接。相应的,本发明还提供一种红外焦平面阵列的制作方法。本发明的红外焦平面阵列在光敏元件阵列的正向集成了聚能微透镜,所述聚能微透镜将入射在其上的红外光线直接汇聚到光敏元件的红外吸收层,不会被红外吸收层下方的电路层吸收而造成红外焦平面的吸收因子降低。本发明的制作过程不会破坏光敏元件的性能。

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