专利详情

专利名称	一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用
申请号	CN201210547993.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103084078A	公开（授权）日	2013.05.08
申请（专利权）人	中国科学院大连化学物理研究所	发明（设计）人	任吉中;张立秋;李晖;赵丹;冯世超
主分类号	B01D71/64(2006.01)I	IPC主分类号	B01D71/64(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I;B01D69/12(2006.01)I;B01D53/22(2006.01)I
专利有效期	一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用至一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用，本发明选用含有极性醚氧基团的新型HQDEA-DMMDA聚醚酰亚胺为基质膜材料，选择气相二氧化硅粒子为填料，通过超声方法将二氧化硅均匀分散在基质膜溶液中制备气体分离膜，该混合基质膜具有较好的气体渗透性，并对H2/CH4,H2/N2,CO2/CH4,CO2/H2以及O2/N2等分离体系保持较高的分离性能。