专利详情

专利名称	一种快速反演薄膜生长厚度的光学监控追迹方法
申请号	CN201210501871.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102980522A	公开（授权）日	2013.03.20
申请（专利权）人	中国科学院上海技术物理研究所	发明（设计）人	蔡清元;郑玉祥;刘定权;罗海瀚
主分类号	G01B11/06(2006.01)I	IPC主分类号	G01B11/06(2006.01)I
专利有效期	一种快速反演薄膜生长厚度的光学监控追迹方法至一种快速反演薄膜生长厚度的光学监控追迹方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种快速反演薄膜生长厚度的光学监控追迹方法，属于薄膜生长光学监控技术领域。该方法建立了一种有别于导纳追迹方式的光学监控追迹方式，以膜系透射率的倒数及膜层等效位相厚度同时作为追迹对象，可以在监控过程中实时看到薄膜生长过程中光学特性的变化，并建立直观的监控透射率信号与膜层厚度的对应关系，完成薄膜生长厚度的监控。根据设计参数进行理论计算并作好预期追迹图像，通过实际光学监控信号的极值点来修正预期追迹图像，完成实际追迹图像，获得实际膜层折射率,从而修正膜系设计参数，并进行不同膜层间厚度的自动补偿。