专利详情

专利名称	一种低温低损伤多功能复合镀膜的装置和方法
申请号	CN201310027354.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103074586A	公开（授权）日	2013.05.01
申请（专利权）人	中国科学院金属研究所	发明（设计）人	雷浩;肖金泉;宫骏;孙超
主分类号	C23C14/35(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/35(2006.01)I
专利有效期	一种低温低损伤多功能复合镀膜的装置和方法至一种低温低损伤多功能复合镀膜的装置和方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明属于薄膜制备领域，具体地说是一种低温低损伤多功能复合镀膜的装置和方法。该装置由包括两组四个矩形非平衡态磁控靶材、一个离子源和一个工件转架在内的真空腔体组成。两组非平衡态靶并排放置，每组中两个靶材呈面对面放置，可独立工作或同时工作；靶与靶之间距离可调，靶与靶的角度可调，靶材使用直流电源驱动，在每组靶材中靶与靶之间产生等离子体。工件转架位于两组靶材之间的中间位置，离子源位于一组靶材侧面，起离子清洗和辅助沉积的作用。本发明可以屏蔽二次电子和氧负离子等造成聚合物等有机材料损伤和温升，并通过低温线性离子源辅助沉积，实现在聚合物等有机材料表面上低温低损伤高速均匀沉积薄膜。