专利详情

专利名称	光学薄膜抗重复频率激光损伤特性的评价方法
申请号	CN200910048695.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101526461	公开（授权）日	2009.09.09
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	张东;贺洪波;赵元安;夏燏
主分类号	G01N17/00(2006.01)I	IPC主分类号	G01N17/00(2006.01)I;G01N21/88(2006.01)I;G01N21/49(2006.01)I
专利有效期	光学薄膜抗重复频率激光损伤特性的评价方法至光学薄膜抗重复频率激光损伤特性的评价方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种光学薄膜抗重复频率激光损伤特性的评价方法，该方法是用具有一定能量密度的一串序列激光脉冲辐照待测薄膜样品的不同测试点，确定并记录每个测试点的损伤状态，计算出该能量密度下的弱损伤几率；多次改变激光的能量密度辐照待测薄膜样品的不同测试点，确定并记录各测试点的损伤状态，分别计算每个能量密度下的弱损伤几率；以能量密度和弱损伤几率分别为横坐标和纵坐标制作弱损伤几率随激光能量密度的变化曲线，用该几率曲线的损伤几率峰值所对应的能量密度来评价该光学薄膜抗重复频率激光损伤的特性。该能量密度越大，光学薄膜抗重复频率激光损伤的特性就越好。本发明使评价光学薄膜产品抗重复频率激光损伤特性的方法更加简单和实用。