专利详情

专利名称	基于控制腐蚀的气囊式研抛装置
申请号	CN201220407973.3	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN202825477U	公开（授权）日	2013.03.27
申请（专利权）人	中国科学院西安光学精密机械研究所	发明（设计）人	马臻;许亮;丁蛟腾;陈钦芳
主分类号	B24B13/01(2006.01)I	IPC主分类号	B24B13/01(2006.01)I;B24B41/04(2006.01)I;B24B51/00(2006.01)I
专利有效期	基于控制腐蚀的气囊式研抛装置至基于控制腐蚀的气囊式研抛装置	法律状态	授权
说明书摘要	本实用新型提供一种基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，主要解决了现有光学元件，尤其是非球面光学元件加工时成本较高，加工效率较低的问题。该基于控制腐蚀的气囊式研抛装置包括连接有气泵的气囊式抛光头，气囊式抛光头包括设置在抛光头主体上的气囊，还包括承载机构和腐蚀液储液槽，承载机构一侧用于承载被加工元件，本实用新型实现了非球面的整体研抛，而不是常用的环带修抛，把非球面的加工难度降低到了球面加工的水平；另外将化学腐蚀机理引入光学加工，并通过加热实现腐蚀速率的加快，显著提高了光学元件的材料去除水平，可完成大非球面度的铣磨工作，且实现了非球面铣磨与抛光在同一台机床上完成。