专利详情

专利名称	一种X-射线滤光片的制备方法
申请号	CN200910076786.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101475698	公开（授权）日	2009.07.08
申请（专利权）人	中国科学院高能物理研究所	发明（设计）人	张静
主分类号	C08J5/18(2006.01)I	IPC主分类号	C08J5/18(2006.01)I;C08L101/00(2006.01)I;C08L75/04(2006.01)I;C08L33/12(2006.01)I;C08L77/00(2006.01)I;C08L63/00(2006.01)I;C08L67/00(2006.01)I;C08K3/22(2006.01)I;G21K3/00(2006.01)I;G01N23/223(2006.01)I
专利有效期	一种X-射线滤光片的制备方法至一种X-射线滤光片的制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种X-射线滤光片的制备方法，其以金属氧化物纳米粒子为基质材料，有机高分子为基底材料，按照1∶5-2∶1的基质 /基底重量比混合，通过自动涂膜机和湿膜制备器，制备厚度可控的金属氧化物纳米粒子/有机高分子薄膜，应用于X-射线滤光片。该方法能大大地减少涂料消耗及对人体和环境的污染，另外，通过调控 X-射线滤光片中的金属氧化物纳米粒子及有机高分子的含量，可有效地降低在X射线吸收光谱的荧光模式测量中的散射背底，相对地增强在测量中的荧光信号。