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自对准肖特基二极管及相应电阻转换存储器制造方法

  • 申请号:CN200810207298.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 公开(公开)号:CN101459129
  • 公开(公开)日:2009.06.17
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 自对准肖特基二极管及相应电阻转换存储器制造方法
申请号 CN200810207298.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101459129 公开(授权)日 2009.06.17
申请(专利权)人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明(设计)人 张挺;宋志棠;刘波;封松林;陈邦明
主分类号 H01L21/822(2006.01)I IPC主分类号 H01L21/822(2006.01)I
专利有效期 自对准肖特基二极管及相应电阻转换存储器制造方法 至自对准肖特基二极管及相应电阻转换存储器制造方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种采用自对准法制造肖特基二极管阵列的方法,此方法用较少的工艺 步骤制造二极管阵列,有效节省了光刻次数,采用特定的金属与半导体,使两者之间形 成稳定的肖特基接触,用于肖特基二极管的形成,进而对存储器件进行选通。作为本发 明的一部分,还包括基于自对准肖特基二极管阵列的电阻转换存储器的制造方法。

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