
自对准肖特基二极管及相应电阻转换存储器制造方法
- 申请号:CN200810207298.8
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 公开(公开)号:CN101459129
- 公开(公开)日:2009.06.17
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 自对准肖特基二极管及相应电阻转换存储器制造方法 | ||
申请号 | CN200810207298.8 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101459129 | 公开(授权)日 | 2009.06.17 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明(设计)人 | 张挺;宋志棠;刘波;封松林;陈邦明 |
主分类号 | H01L21/822(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/822(2006.01)I |
专利有效期 | 自对准肖特基二极管及相应电阻转换存储器制造方法 至自对准肖特基二极管及相应电阻转换存储器制造方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明涉及一种采用自对准法制造肖特基二极管阵列的方法,此方法用较少的工艺 步骤制造二极管阵列,有效节省了光刻次数,采用特定的金属与半导体,使两者之间形 成稳定的肖特基接触,用于肖特基二极管的形成,进而对存储器件进行选通。作为本发 明的一部分,还包括基于自对准肖特基二极管阵列的电阻转换存储器的制造方法。 |
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