专利详情

专利名称	基于低剂量单步光栅的X射线相位衬度成像
申请号	CN201080006650.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102325498A	公开（授权）日	2012.01.18
申请（专利权）人	中国科学院高能物理研究所;保罗·谢勒学院	发明（设计）人	朱佩平;吴自玉;M.斯塔姆帕诺尼
主分类号	A61B6/00(2006.01)I	IPC主分类号	A61B6/00(2006.01)I;G01N23/04(2006.01)I
专利有效期	基于低剂量单步光栅的X射线相位衬度成像至基于低剂量单步光栅的X射线相位衬度成像	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	相敏X射线成像方法可以提供与传统的基于吸收的成像相比基本上增加的衬度，并且因此提供新的且否则不可访问的信息。在硬X射线相位成像中将光栅作为光学元件的使用克服了已经损害相位衬度在X射线放射照相术和断层照相术中的更广泛应用的某些问题。到目前为止，为了将相位信息从利用光栅干涉仪检测的其他贡献中分离出来，已经考虑了相位步进方法，其隐含着对多个放射照相投影的获取。在这里，基于光栅干涉仪提出了创新的、高度灵敏的X射线断层照相相位衬度成像方法，其提取相位衬度信号而无需相位步进。与现有的相位步进方法相比，称为“反向投影”的该新方法的主要优势是显著地降低了传递的剂量而图像质量没有降级。该新技术为未来的快速和低剂量的相位衬度成像方法设置了先决条件，为成像生物标本和活体内研究设置了基础。