专利详情

专利名称	一种纳米图形化系统及其磁场施加装置
申请号	CN201220138269.2	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN202533709U	公开（授权）日	2012.11.14
申请（专利权）人	中国科学院物理研究所	发明（设计）人	于国强;郭鹏;韩秀峰;郭朝晖;孙晓玉;周向前
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I;G01R31/00(2006.01)I
专利有效期	一种纳米图形化系统及其磁场施加装置至一种纳米图形化系统及其磁场施加装置	法律状态
说明书摘要	一种纳米图形化系统及其磁场施加装置，该纳米图形化系统包括真空腔、样品台和磁场施加装置，该磁场施加装置包括电源、磁场产生装置和一对磁极，所述磁场产生装置包括线圈和导磁软铁芯，所述电源与所述线圈连接，所述线圈缠绕在所述导磁软铁芯上以产生磁场，所述导磁软铁芯为半闭合框形结构，所述磁极分别安装在所述半闭合框形结构的两末端，所述纳米图形化系统的真空腔内设置有样品台，所述磁极相对于所述样品台设置在所述真空腔内，所述线圈和所述导磁软铁芯设置在所述真空腔外，所述导磁软铁芯将所述线圈产生的磁场引导进入所述真空腔内，所述磁极用以对所述样品台上的样品进行定位以及局域磁场的施加。