专利详情

专利名称	一种基于导模干涉的超分辨直写光刻机及其光刻方法
申请号	CN201110282032.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102354085A	公开（授权）日	2012.02.15
申请（专利权）人	中国科学技术大学	发明（设计）人	陈漪恺;张斗国;王向贤;傅强;王沛;明海
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I
专利有效期	一种基于导模干涉的超分辨直写光刻机及其光刻方法至一种基于导模干涉的超分辨直写光刻机及其光刻方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种基于导模干涉的超分辨直写光刻机及其光刻方法，该光刻机包括：激光光源，近端反射镜，偏振元件组，光刻胶，金属薄膜，玻璃基底，匹配油，棱镜和远端反射镜；激发光源发出的激光束激发光刻胶层前向传播的导模，经金属薄膜与玻璃基底的分界面反射的激光，通过右侧的远端反射镜反射后，再次入射到上述分界面，并激发光刻胶层后向传播的导模；两束导模在光刻胶层相互干涉形成周期场，曝光光刻胶，经显影、定影等后续工艺处理，便可在金属薄膜上实现高宽比、长宽比均较大的大面积亚波长光栅的制备；本发明基于激光激发的导波模式，其损耗小、传输距离长，能实现高宽比、长宽比均较大的亚波长光栅的大面积刻写。