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串联ggNMOS管及制备方法、多VDD-VSS芯片

  • 申请号:CN201110130029.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN102790047A
  • 公开(公开)日:2012.11.21
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 串联ggNMOS管及制备方法、多VDD-VSS芯片
申请号 CN201110130029.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102790047A 公开(授权)日 2012.11.21
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 姜一波;杜寰
主分类号 H01L27/02(2006.01)I IPC主分类号 H01L27/02(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I;H01L21/8234(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I
专利有效期 串联ggNMOS管及制备方法、多VDD-VSS芯片 至串联ggNMOS管及制备方法、多VDD-VSS芯片 法律状态 授权
说明书摘要 本发明公开了一种串联ggNMOS管及制备方法、多VDD-VSS芯片。所述串联ggNMOS管包括串联ggNMOS管、虚拟栅。所述串联ggNMOS管由制作在半导体基底上的两个NMOS管串联形成;所述虚拟栅置于所述串联ggNMOS管的上nmos管的源区与所述串联ggNMOS管的下nmos管的漏区之间。本发明提供的串联ggNMOS管,具有更高的击穿电压Vt1,能够满足更高电压的ESD保护需求。

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