超疏水自清洁涂层及其制备方法
- 申请号:CN201110135173.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院理化技术研究所
- 公开(公开)号:CN102795786A
- 公开(公开)日:2012.11.28
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 超疏水自清洁涂层及其制备方法 | ||
申请号 | CN201110135173.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102795786A | 公开(授权)日 | 2012.11.28 |
申请(专利权)人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明(设计)人 | 贺军辉;王东 |
主分类号 | C03C17/23(2006.01)I | IPC主分类号 | C03C17/23(2006.01)I;C03C17/32(2006.01)I |
专利有效期 | 超疏水自清洁涂层及其制备方法 至超疏水自清洁涂层及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明属于纳米材料制备技术领域,特别涉及超疏水自清洁涂层及其制备方法。将疏水性硅树脂、亲水性纳米SiO2颗粒分散于有机溶剂中得到分散液;将分散液喷涂在洁净、干燥的玻璃片基底上,干燥后即得所述的超疏水自清洁涂层。所述的涂层是由疏水性硅树脂与亲水性纳米SiO2颗粒有机无机两种组份复合而成的表面形貌为微米-纳米复合的阶层结构;所述的微米-纳米复合的阶层结构是由粒径为20~100nm的团聚小球构建成的粒径为1~10μm的类球状突起,以及所述涂层表面的粒径为20~100nm的团聚小球组合构建成的。所述的涂层与水的接触角在140°~155°之间,水滴在所述的涂层表面的滚动角小于2°。 |
交易流程
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