硅基上的近红外量子点电致发光的器件及制备方法
- 申请号:CN201210308854.7
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN102820391A
- 公开(公开)日:2012.12.12
- 法律状态:授权
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专利详情
专利名称 | 硅基上的近红外量子点电致发光的器件及制备方法 | ||
申请号 | CN201210308854.7 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102820391A | 公开(授权)日 | 2012.12.12 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 许兴胜;李成果 |
主分类号 | H01L33/06(2010.01)I | IPC主分类号 | H01L33/06(2010.01)I;H01L33/20(2010.01)I |
专利有效期 | 硅基上的近红外量子点电致发光的器件及制备方法 至硅基上的近红外量子点电致发光的器件及制备方法 | 法律状态 | 授权 |
说明书摘要 | 一种硅基上的近红外量子点电致发光的器件,包括:一衬底;一氧化层制作在衬底上,该氧化层为二氧化硅薄膜,其通过分担电压,平衡电子和空穴的注入;一发光层制作在氧化层上,该发光层为近红外发光的胶体量子点;一电子传输层制作在发光层上,该电子传输层可以传输电子,提高电子载流子注入效率;一金属电极制作在电子传输层上,该金属电极用于向发光层注入电子;其中所述衬底、氧化层、发光层、电子传输层和金属电极为平板波导结构或为脊形波导结构,所述脊形波导结构的衬底为凸字形,中间有一凸台,所述氧化层、发光层、电子传输层和金属电极均制作在衬底的凸台上。本发明具有发光频率可调谐,且材料容易获得,制作成本低廉和工艺简单的优点。 |
交易流程
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专利 -
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