低温相氧化铋光催化剂的退火方法
- 申请号：CN201210192823.X
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院福建物质结构研究所
- 公开(公开)号：CN102698733A
- 公开(公开)日：2012.10.03
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 低温相氧化铋光催化剂的退火方法 | ||
| 申请号 | CN201210192823.X | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN102698733A | 公开（授权）日 | 2012.10.03 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 发明（设计）人 | 林文文;黄丰;张继业;王永好;吕佩文;颜峰坡 |
| 主分类号 | B01J23/18(2006.01)I | IPC主分类号 | B01J23/18(2006.01)I;B01J37/00(2006.01)I |
| 专利有效期 | 低温相氧化铋光催化剂的退火方法 至低温相氧化铋光催化剂的退火方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明提供一种低温相氧化铋光催化剂的退火方法，属于半导体光催化领域。将氧化铋和供氧化合物真空密封，在300℃～900℃温度中，保温时间为1-72小时进行高温保温退火，最后自然降温。该方法提高其对于可见光的利用率，进而提高其可见光光催化效率。 | ||
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