专利详情

专利名称	磁场产生装置、磁控管阴极及溅射装置
申请号	CN201180004548.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102725435A	公开（授权）日	2012.10.10
申请（专利权）人	新柯隆株式会社;中国科学技术大学	发明（设计）人	孔为;林子敬;李明;谢斌;王海千;姜友松;长江亦周
主分类号	C23C14/35(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/35(2006.01)I;C03C17/245(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I
专利有效期	磁场产生装置、磁控管阴极及溅射装置至磁场产生装置、磁控管阴极及溅射装置	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种提高靶材的利用率的磁场产生装置(10)。其配置于靶材(8)的背面并在靶材(8)的表面(8a)根据磁力线(11)产生磁场，其包括：将极轴保持在与靶材(8)的面平行的方向(X方向)上的外周磁体(144)；配置于外周磁体(144)内侧并将极轴保持在与外周磁体(144)的极轴的方向平行的方向(X方向)上的中心磁体(142)；从背面支承外周磁体(144)及中心磁体(142)的轭板(12)；改变靶材(8)的表面(8a)的磁场分布的导磁板(16)。导磁板(16)配置于外周磁体(144)及中心磁体(142)之间。另外导磁板(16)配置为由轭板(12)从背面支承。