干涉测量光学材料均匀性的方法
- 申请号：CN201210406066.1
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN102928200A
- 公开(公开)日：2013.02.13
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 干涉测量光学材料均匀性的方法 | ||
| 申请号 | CN201210406066.1 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN102928200A | 公开（授权）日 | 2013.02.13 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 栾竹;刘世杰;吴福林;成倩;白云波 |
| 主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I |
| 专利有效期 | 干涉测量光学材料均匀性的方法 至干涉测量光学材料均匀性的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种干涉测量光学材料均匀性的方法，将光学材料加工成前后表面具有一定的夹角α的样品，利用干涉仪通过五次波面测量，然后计算得到样品的光学均匀性，为绝对测量结果。特别适合于待测元件超过干涉仪测试口径的大口径元件测量。 | ||
交易流程
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专利 -
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可交易 - 03 签订合同
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