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一种提高铁基超导体上临界场和临界电流密度的方法

  • 申请号:CN201110318140.X
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院电工研究所
  • 公开(公开)号:CN102412017A
  • 公开(公开)日:2012.04.11
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种提高铁基超导体上临界场和临界电流密度的方法
申请号 CN201110318140.X 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102412017A 公开(授权)日 2012.04.11
申请(专利权)人 中国科学院电工研究所 发明(设计)人 高召顺;马衍伟;王雷;姚超;齐彦鹏;王春雷;张现平;王栋樑
主分类号 H01B13/00(2006.01)I IPC主分类号 H01B13/00(2006.01)I;H01B12/00(2006.01)I
专利有效期 一种提高铁基超导体上临界场和临界电流密度的方法 至一种提高铁基超导体上临界场和临界电流密度的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种提高铁基超导体上临界场和临界电流密度的方法,在铁基超导体块材或线带材的先驱粉或原料粉中添加锡、含锡化合物或含锡合金,混合均匀后,将先驱粉压制成块,或填入金属管、复合金属管或合金管中拉拔轧制成线带材。再将块材或线带材在保护气氛或者真空条件下,经200-1300℃焙烧1秒钟-100小时。本发明制备的铁基超导体具有优异的超导特性:高的临界电流特性、高的上临界场和不可逆场。

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