一种提高铁基超导体上临界场和临界电流密度的方法
- 申请号:CN201110318140.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院电工研究所
- 公开(公开)号:CN102412017A
- 公开(公开)日:2012.04.11
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种提高铁基超导体上临界场和临界电流密度的方法 | ||
申请号 | CN201110318140.X | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102412017A | 公开(授权)日 | 2012.04.11 |
申请(专利权)人 | 中国科学院电工研究所 | 发明(设计)人 | 高召顺;马衍伟;王雷;姚超;齐彦鹏;王春雷;张现平;王栋樑 |
主分类号 | H01B13/00(2006.01)I | IPC主分类号 | H01B13/00(2006.01)I;H01B12/00(2006.01)I |
专利有效期 | 一种提高铁基超导体上临界场和临界电流密度的方法 至一种提高铁基超导体上临界场和临界电流密度的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种提高铁基超导体上临界场和临界电流密度的方法,在铁基超导体块材或线带材的先驱粉或原料粉中添加锡、含锡化合物或含锡合金,混合均匀后,将先驱粉压制成块,或填入金属管、复合金属管或合金管中拉拔轧制成线带材。再将块材或线带材在保护气氛或者真空条件下,经200-1300℃焙烧1秒钟-100小时。本发明制备的铁基超导体具有优异的超导特性:高的临界电流特性、高的上临界场和不可逆场。 |
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