专利详情

专利名称	一种具有微纳褶皱图案的薄膜制备方法
申请号	CN201010135681.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102199744A	公开（授权）日	2011.09.28
申请（专利权）人	国家纳米科学中心	发明（设计）人	张祝伟;郭传飞;刘前
主分类号	C23C14/20(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/20(2006.01)I;B32B15/08(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I
专利有效期	一种具有微纳褶皱图案的薄膜制备方法至一种具有微纳褶皱图案的薄膜制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供了一种制备具有微纳褶皱图案薄膜的方法，包括以下步骤：选取基底；在所述基底上形成聚合物薄膜，并进行退火处理，得到该聚合物薄膜厚度为10nm-2μm；在步骤2)所得的聚合物薄膜上形成金属薄膜，其厚度为2～50nm；用激光在步骤3)所得的金属薄膜表面进行图案化扫描；将步骤4)所得产物加热至所述聚合物薄膜的玻璃化转变温度。该方法工艺简单、可控性强、成本低廉，可以大面积实现。所制备的具有有序周期结构的薄膜材料在光催化、光电薄膜器件、高性能传感器等领域有着广阔的应用前景。