专利详情

专利名称	提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法
申请号	CN201110094660.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102191475A	公开（授权）日	2011.09.21
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	朱美萍;易葵;邵建达;范正修
主分类号	C23C14/54(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/54(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I
专利有效期	提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法至提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种用于计算机控制镀膜装置进行镀膜的提高薄膜光谱性能的膜厚监控方法，该方法包括该方法包括：(1)镀膜前向计算机输入镀膜参数：(2)通过计算机计算选择满足限制条件的监控波长λ和监控片数目，其中λMin＜λ＜λMax，得到一个与所镀膜系的镀膜监控表，包括所镀膜系按顺序的膜层、相应的监控波长和监控片序号；(3)镀膜等步骤。本发明能够自动选择监控波长和所需的最少监控片数目，采用比例式膜厚监控方法，减少了膜厚监控误差，提高了膜厚监控精度，可对规整膜系和非规整膜系进行监控。在膜厚监控系统控制精度不变的情况下，可有效地提高了薄膜的光谱性能。