专利详情

专利名称	Al衬底用化学机械抛光液
申请号	CN201210219203.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102757732A	公开（授权）日	2012.10.31
申请（专利权）人	上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	王良咏;刘卫丽;宋志棠
主分类号	C09G1/02(2006.01)I	IPC主分类号	C09G1/02(2006.01)I;C23F3/02(2006.01)I
专利有效期	Al衬底用化学机械抛光液至Al衬底用化学机械抛光液	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种化学机械抛光液，尤其涉及一种可有效应用于Al衬底化学机械抛光工艺的抛光液。本发明提供一种Al衬底用化学机械抛光液,包含抛光颗粒、氧化剂、鳌合剂、腐蚀抑制剂、表面活性剂、pH调节剂及水性介质。其中以抛光液总重量为基准，上述组分的重量百分比为：抛光颗粒0.1-50wt%；氧化剂0.01-10wt%；螯合剂0.01-5wt%；腐蚀抑制剂0.0001-5wt%；表面活性剂0.001-2wt%；余量为pH调节剂和水性介质。可显著降低化学机械抛光后Al衬底表面的桔皮坑等缺陷,从而大大改善抛光后Al衬底表面质量。