专利详情

专利名称	一种有机发光显示器件阴极隔离柱的加工方法
申请号	CN200810050860.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101304076	公开（授权）日	2008.11.12
申请（专利权）人	中国科学院长春应用化学研究所	发明（设计）人	韩艳春;邢汝博;丁艳
主分类号	H01L51/56(2006.01)I	IPC主分类号	H01L51/56(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I
专利有效期	一种有机发光显示器件阴极隔离柱的加工方法至一种有机发光显示器件阴极隔离柱的加工方法	法律状态	授权
说明书摘要	本发明提供一种有机发光显示器件阴极隔离柱的加工方法，采用微转移图案化的方法在正性光刻胶薄膜上形成聚合物薄膜图案，然后以该聚合物薄膜选择性吸附催化剂后进行化学镀金属以形成金属薄膜。最后以金属薄膜作为掩模对下层正性光刻胶薄膜进行选择性紫外曝光并溶解除去。紫外光在掩模图形边缘的衍射可以造成非曝光区域边缘的部分曝光，使剩余的光刻胶薄膜可以和上层的金属薄膜共同组成具有T型截面的结构，该结构可以作为有机发光显示中阴极的隔离柱。由于层叠结构T型截面的隔离柱上层金属薄膜不受紫外曝光和显影的影响，因此对正性光刻胶的曝光剂量和显影时间超过最佳条件的情况下仍然得到与掩模板尺寸相符的目标层图案。