专利详情

专利名称	基于横向剪切干涉结构的光学元件面形的测量方法
申请号	CN201210356681.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102878947A	公开（授权）日	2013.01.16
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	戴凤钊;唐锋;王向朝;张敏
主分类号	G01B11/24(2006.01)I	IPC主分类号	G01B11/24(2006.01)I
专利有效期	基于横向剪切干涉结构的光学元件面形的测量方法至基于横向剪切干涉结构的光学元件面形的测量方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种基于横向剪切干涉结构的光学元件面形的测量方法，测量系统包括光源、显微物镜、小孔光阑、准直物镜、剪切平板、光电探测器和计算机，测量时将待测光学元件置于准直物镜之后，并使光轴穿过待侧面的中心，测量步骤如下：①获取x方向和y方向的横向剪切干涉图；②在计算机中获取x方向和y方向的差分波前；③评价待测波前线性度，确定线性度最高的子矩形区域的初始点；④通过线性插值法计算重建的初始值；⑤通过区域法重建待测波前。本发明不增加测量次数，实现了高空间分辨率的光学元件面形的测量，并且提高了测量的精度和稳定性。