一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法
- 申请号:CN201210365757.1
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号:CN102862950A
- 公开(公开)日:2013.01.09
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法 | ||
申请号 | CN201210365757.1 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102862950A | 公开(授权)日 | 2013.01.09 |
申请(专利权)人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明(设计)人 | 罗先刚;赵泽宇;王长涛;王彦钦;黄成;陶兴;杨欢;刘利芹;杨磊磊;蒲明薄 |
主分类号 | B81C1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B81C1/00(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I |
专利有效期 | 一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法 至一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法,首先确定入射波长,选取合适的透光基底材料,基底上再蒸镀一层金属膜,让入射光垂直于金属膜表面入射;利用纳米加工技术在金属膜上加工等宽度的狭缝或者环形缝阵列;对于预定焦点位置的光聚焦,计算光在焦点位置聚焦时光波在不同位置排布的狭缝或者环形缝的位相延迟分布,通过聚焦离子束引导沉积特定厚度的介质满足光波在不同位置排布狭缝或者环形缝的位相延迟要求,使金属聚焦透镜实现对入射光在预定焦点位置的聚焦。本发明根据预定的焦点位置来改变金属聚焦透镜的狭缝或者环形缝内介质厚度沉积以实现近场或者远场光聚焦,同时其透镜结构简单,可很方便的用于光路系统集成,具有广阔的应用前景。 |
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