专利详情

专利名称	非对称型移相光栅标记及在光刻机物镜像差检测中的应用
申请号	CN200810034644.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101241315	公开（授权）日	2008.08.13
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	邱自成;王向朝;袁琼雁
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I
专利有效期	非对称型移相光栅标记及在光刻机物镜像差检测中的应用至非对称型移相光栅标记及在光刻机物镜像差检测中的应用	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种非对称型移相光栅标记及在光刻机物镜像差检测中的应用，所述标记由两组非对称型移相光栅组成，两组光栅的线条方向分别为90度和0度，所述标记为交替型移相光栅，光栅中两相邻透光区域的相位差为180度；移相光栅的线空比为1∶2，移相光栅的周期为1.92λ/NA，其中，λ为光刻机照明光源的波长，NA为光刻机投影物镜数值孔径可变化范围内其最大与最小值的平均值。本发明还提供一种基于非对称型移相光栅标记的光刻机投影物镜波像差原位检测方法。通过优化移相光栅的结构和尺寸，测试标记的像差灵敏度明显提高，利用该测试标记检测光刻机投影物镜的波像差，检测精度明显提高。