单结铟镓氮太阳能电池结构及制作方法
- 申请号:CN200710062978.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN101232050
- 公开(公开)日:2008.07.30
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 单结铟镓氮太阳能电池结构及制作方法 | ||
申请号 | CN200710062978.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101232050 | 公开(授权)日 | 2008.07.30 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 王晓亮;肖红领;杨翠柏;胡国新;冉学军;王翠梅;张小宾;李建平;李晋闽 |
主分类号 | H01L31/042(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L31/042(2006.01)I;H01L31/068(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
专利有效期 | 单结铟镓氮太阳能电池结构及制作方法 至单结铟镓氮太阳能电池结构及制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种单结铟镓氮太阳能电池结构,其特征在于, 其中包括:一衬底;一低温氮化镓成核层,该低温氮 化镓成核层制作在衬底的上面,该成核层可增加衬底 表面的成核密度;一非有意掺杂氮化镓缓冲层,该非 有意掺杂氮化镓缓冲层制作在低温氮化镓成核层的上 面,该缓冲层可减少外延层的缺陷密度,提高晶体质 量;一n型掺杂InxGa1-xN层,该n型掺杂InxGa1-xN 层制作在非有意掺杂高阻氮化镓缓冲层的上面,该n 型掺杂层是InxGa1-xN p-n结的一部分;一p型掺杂 InxGal-xN层,该p型掺杂InxGa1-xN层制作在n型掺 杂InxGa1-xN层的上面,该p型掺杂层是InxGa1-xN p-n 结的一部分。 |
交易流程
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专利 -
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