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一种基于溶剂热反应的均相碳硅有机先驱粉体及其应用

  • 申请号:CN201210312929.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院金属研究所
  • 公开(公开)号:CN102826536A
  • 公开(公开)日:2012.12.19
  • 法律状态:实质审查的生效
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专利详情

专利名称 一种基于溶剂热反应的均相碳硅有机先驱粉体及其应用
申请号 CN201210312929.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102826536A 公开(授权)日 2012.12.19
申请(专利权)人 中国科学院金属研究所 发明(设计)人 张劲松;姜春海;杨晓丹;许卫刚
主分类号 C01B31/02(2006.01)I IPC主分类号 C01B31/02(2006.01)I;C01B31/36(2006.01)I;C01B33/18(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I
专利有效期 一种基于溶剂热反应的均相碳硅有机先驱粉体及其应用 至一种基于溶剂热反应的均相碳硅有机先驱粉体及其应用 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明属于均相碳硅有机先驱粉体的制备技术领域,具体地说为一种基于溶剂热反应的均相碳硅有机先驱粉体及其应用,解决硅酸乙酯与酚醛树脂直接混合时容易分相,无法得到均相碳硅有机先驱粉体的问题。将酚醛树脂和正硅酸乙酯按一定比例溶于有机溶剂,并以乙酸作为水解抑制剂,置于密闭反应釜中,在100~250℃自生压力下溶剂热聚合4~10小时;将聚合产物烘干、研磨后即可制备得到纳米尺度、粒度均一且具有良好分散性的均相碳硅有机先驱粉体。利用本发明制得的均相碳硅有机先驱粉体,可采用碳热还原反应制备碳化硅超细粉体,或者直接在空气气氛下煅烧制备纳米二氧化硅粉体,或者采用先碳化再化学腐蚀去除二氧化硅的方法制备多孔碳粉,用途广泛。

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