专利详情

专利名称	一种高价离子的产生装置
申请号	CN201120533550.1	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN202585323U	公开（授权）日	2012.12.05
申请（专利权）人	中国科学院大连化学物理研究所	发明（设计）人	李海洋;赵无垛;曲丕丞;王卫国;谢园园
主分类号	H01J37/08(2006.01)I	IPC主分类号	H01J37/08(2006.01)I;H01J49/10(2006.01)I
专利有效期	一种高价离子的产生装置至一种高价离子的产生装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型公开了一种高价离子的产生装置，该装置通过激光聚焦后打在团簇上产生高价离子。该装置包括样品池、电磁脉冲阀、束源室、差分小孔、电离室和脉冲激光光源；束源室和电离室均为中空的密闭箱体，束源室和电离室的一侧壁面相贴接，管路一端接高压气源，另一端伸入束源室内，于束源室内的管路出口端设有电磁脉冲阀，管路出口面向束源室和电离室贴接的一侧壁面，管路出口正前方的束源室壁面上设有与电离室相通的差分小孔；电离室的侧壁上设有光窗，并于光窗外设有脉冲激光光源，激光光源发出的激光通过光窗进入电离室内；束源室和电离室上均设有排气口；脉冲发生器通过导线与电磁脉冲阀和脉冲激光光源连接。