专利详情

专利名称	用掩膜和无掩膜技术一次成型原子力显微镜探针和悬臂梁
申请号	CN200410066491.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1587024	公开（授权）日	2005.03.02
申请（专利权）人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	李昕欣;韩建强;鲍敏杭;杨恒;沈绍群;王跃林
主分类号	B81C1/00	IPC主分类号	B81C1/00;B81C5/00;G12B21/08
专利有效期	用掩膜和无掩膜技术一次成型原子力显微镜探针和悬臂梁至用掩膜和无掩膜技术一次成型原子力显微镜探针和悬臂梁	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供了一种利用掩膜－无掩膜腐蚀技术实现AFM悬臂梁和探针一次成型的制作方法。其特征在于在腐蚀过程中，探针采用有掩膜腐蚀技术腐蚀，而梁采用无掩膜腐蚀技术腐蚀，当探针针尖的直径达到预定值时，梁的厚度达到设定值。本发明所涉及的各向异性湿法腐蚀工艺一次成型 AFM探针和悬臂梁的制作方法具有以下优点。(1)制作工艺简单：仅采用了常规的光刻工艺和湿法各向异性腐蚀工艺，对工艺设备要求较低、简便易行，降低了产品成本，提高了成品率； (2)采用SOI硅片的顶层硅的下表面作为光反射面，与重掺杂自停止腐蚀形成的表面相比更平整，光反射率高；(3)以二氧化硅埋层为腐蚀自停止层，与重掺杂自停止方法相比，对梁厚度的控制更为精确。