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一种用于扫描探针显微镜的金薄膜基底制作方法

  • 申请号:CN200410010647.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院长春应用化学研究所
  • 公开(公开)号:CN1558424
  • 公开(公开)日:2004.12.29
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种用于扫描探针显微镜的金薄膜基底制作方法
申请号 CN200410010647.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN1558424 公开(授权)日 2004.12.29
申请(专利权)人 中国科学院长春应用化学研究所 发明(设计)人 李壮;刘志国;马智勇;吴爱国;周化岚;魏刚
主分类号 G12B21/00 IPC主分类号 G12B21/00;H01J37/20;G01N13/10
专利有效期 一种用于扫描探针显微镜的金薄膜基底制作方法 至一种用于扫描探针显微镜的金薄膜基底制作方法 法律状态 授权
说明书摘要 本发明属于扫描探针显微镜中基底的制作方法。 通过真空蒸镀的方法,在新解离的云母表面镀一层金薄膜,然 后将此薄膜剥离于硅片的表面得到较平的金基底。此基底具有 很好的平整度,可用做纳米笔书写,硫醇的自组装体系,生物 分子DNA及蛋白质的原子力显微镜的可视化研究。

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