专利详情

专利名称	最小尺寸为纳米量级图形的印刻法制备工艺
申请号	CN200310122870.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1554987	公开（授权）日	2004.12.15
申请（专利权）人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	宋志棠;张挺;夏吉林;封松林;陈宝明
主分类号	G03F7/20	IPC主分类号	G03F7/20;G03F7/00;H01L21/00
专利有效期	最小尺寸为纳米量级图形的印刻法制备工艺至最小尺寸为纳米量级图形的印刻法制备工艺	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种制备最小尺寸可达纳米量级的图形的印刻法制备工艺，属于微电子领域。其特征在于先制备出“印”，“印”上刻有所需的凸起或凹进的图形。接着利用得到的印压在较为柔软的材料上，印上突起的部分就在该材料上印刻出了所需的图形。如印凹进则相反。目前微电子工业中制备纳米图形主要采用Spacer技术。Spacer技术的工艺比较复杂，需要经过很多流程而且不易控制；而电子束曝光成本较高，不适合于大批量生产。而本发明提出的印刻方法成本低廉，只要制备出一个印，就能印刻出相同条件的很多样品，有很高的可重复性。