专利详情

专利名称	一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构
申请号	CN201010269018.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101914762A	公开（授权）日	2010.12.15
申请（专利权）人	中国科学院半导体研究所	发明（设计）人	冉军学;胡国新;梁勇;王军喜;段瑞飞;曾一平;李晋闽
主分类号	C23C16/455(2006.01)I	IPC主分类号	C23C16/455(2006.01)I;C23C16/18(2006.01)I
专利有效期	一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构至一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构	法律状态	专利申请权、专利权的转移
说明书摘要	本发明公开了一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构，该结构包括进气顶盘法兰和水冷匀气板，该进气顶盘法兰为一圆形金属盘状结构，中间为圆形凹坑，沿圆形凹坑径向用板条隔开，分为2n个扇形区，n为大于1的整数；该水冷匀气板分为有机源水冷匀气板和氢化物气体水冷匀气板，每一个扇形区对应一个水冷匀气板。利用本发明，可以使反应气体均匀的进入反应室内，使反应室内气体达到均匀生长的气流模式。