专利详情

专利名称	一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置
申请号	CN03123574.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1553284	公开（授权）日	2004.12.08
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	陈旭南;罗先刚;田宏;石建平
主分类号	G03F7/00	IPC主分类号	G03F7/00;G03F7/20;H01S5/00
专利有效期	一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置至一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置，由光源(3)、镜组(2)、反射镜(1)和镜组(4)组成的均匀照明系统照明掩模，并使接触接近放置的硅片(7)上的抗蚀剂涂层(6) 感光，其特征在于：均匀照明系统的光源(3)是一般波长或长波长激光，镜组(1)和镜组(4)是聚焦扩束准直均匀照明镜组，在均匀照明位置放置的掩模是金属掩模(5)，它与安放在其下方的高分辨率抗蚀剂涂层(6)之间距离为0.005－1000μm。本发明用 193－1000nm任意波长激光照明金属掩模，激发金属掩模表面等离子体，通过等离子波传播，出射小发散角光用于光刻，不受衍射极限的限制，不需要复杂昂贵的极短波长光源，就可制作出纳米量级的图形。