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一种SiC单晶生长压力自动控制装置

  • 申请号:CN200310113522.4
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院物理研究所
  • 公开(公开)号:CN1544714
  • 公开(公开)日:2004.11.10
  • 法律状态:专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种SiC单晶生长压力自动控制装置
申请号 CN200310113522.4 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN1544714 公开(授权)日 2004.11.10
申请(专利权)人 中国科学院物理研究所 发明(设计)人 陈小龙;吴星;李河清;倪代秦;胡伯清
主分类号 C30B23/00 IPC主分类号 C30B23/00;C30B29/36
专利有效期 一种SiC单晶生长压力自动控制装置 至一种SiC单晶生长压力自动控制装置 法律状态 专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)
说明书摘要 本发明公开了一种SiC单晶生长压力自动控制装 置,该装置包括真空室、进气气源、真空泵、变频器、控制单 元,进气气源通过管道与真空室上的进气口相连,真空泵通过 管道与真空室上的抽气口相连,采用压力传感器来测量真空室 内压力,控制单元按设定程序并根据压力传感器的反馈信号自 动控制变频器的工作,变频器直接控制真空泵的工作。通过变 频器对真空泵进行控制后,因变频器的频率可在0~50之间连 续变化,相应地,真空泵的抽速也可在0~额定抽速之间进行 连续变化,线性度高,因而压力控制灵敏度高,波动性小,可 进行自动控制。

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