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一种碳化硅晶体生长装置

  • 申请号:CN200310113521.X
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院物理研究所
  • 公开(公开)号:CN1544713
  • 公开(公开)日:2004.11.10
  • 法律状态:专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种碳化硅晶体生长装置
申请号 CN200310113521.X 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN1544713 公开(授权)日 2004.11.10
申请(专利权)人 中国科学院物理研究所 发明(设计)人 陈小龙;吴星;李河清;倪代秦;胡伯清;李金成
主分类号 C30B23/00 IPC主分类号 C30B23/00;C30B29/36
专利有效期 一种碳化硅晶体生长装置 至一种碳化硅晶体生长装置 法律状态 专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)
说明书摘要 本发明公开了一种碳化硅晶体生长装置,该装置 包括真空室、石墨生长室、感应线圈,石墨生长室外部包覆有 具有适当厚度的绝热材料,感应线圈设置在绝热材料外部,石 墨生长室连同其外部的绝热材料层及感应线圈一起固定在真 空室内,真空室上带有能够开启的密封盖,其上还设置有供与 真空泵相连的抽气口。将晶体生长室及其绝热材料层和感应线 圈一同设置在由金属制成的真空室中后,消除了真空室壁夹在 感应线圈和晶体生长室之间所带来的缺陷,可以方便地通过调 整保温材料的厚度,改变石墨生长室的尺寸来达到改变生长晶 体尺寸的目的;同时由于感应线圈和石墨生长室之间没有双层 石英管,从而无需进行大的设备改造,即可生长大尺寸SiC晶 体。

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