专利详情

专利名称	一种用于气相沉积的水平式反应器结构
申请号	CN200310108793.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1544687	公开（授权）日	2004.11.10
申请（专利权）人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	于广辉;叶好华;雷本亮;李爱珍;齐鸣
主分类号	C23C16/455	IPC主分类号	C23C16/455
专利有效期	一种用于气相沉积的水平式反应器结构至一种用于气相沉积的水平式反应器结构	法律状态	授权
说明书摘要	本发明涉及一种用于气相沉积的水平式反应器的结构，其特征在于采用了源气垂直喷淋供给的方式。该反应器结构由两组喷淋头、一路载气、一个样品托和一个圆形或者方形的水平腔体构成，整个反应器结构放在水平腔体内，源气和载气进气口和出气口分别在水平腔体的两端，使用时反应器水平放置。由于采用垂直喷淋供气方式，使得两种反应气体在混合区很小的情况下也可以实现均匀混合，既保证了外延生长中大面积均匀性的实现，同时也减少了对外延生长有害的预反应的发生。采用喷淋头与样品平行的结构，既可以采用集成化的反应器结构，即源气喷淋头和样品托固定在一起，也可以分别控制各气路的位置，使得反应器容易加工，使用灵活，适合于批量生产。