
一种光学元件透射损耗测量方法
- 申请号:CN201010295724.5
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号:CN101995328A
- 公开(公开)日:2011.03.30
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种光学元件透射损耗测量方法 | ||
申请号 | CN201010295724.5 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101995328A | 公开(授权)日 | 2011.03.30 |
申请(专利权)人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明(设计)人 | 李斌成;曲哲超;韩艳玲 |
主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I;G01N21/59(2006.01)I |
专利有效期 | 一种光学元件透射损耗测量方法 至一种光学元件透射损耗测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种光学元件透射损耗测量方法,连续激光经模式匹配透镜组整形后沿光轴进入光学谐振腔,将相隔距离略大于待测光学元件厚度的两可变光阑置于光学谐振腔内,其通光孔径小于待测光学元件口径。触发关断激光束后记录光学谐振腔输出信号拟合出衰荡时间τ0;然后将待测光学元件置于光学谐振腔内两可变光阑之间,调节待测光学元件使其表面垂直于光轴,记录光学谐振腔输出信号拟合出衰荡时间τ1;再调节待测光学元件角度使其表面直接反射光逸出光学谐振腔,记录光学谐振腔输出信号拟合出衰荡时间τ2。通过τ0和τ1可得待测光学元件的吸收损耗A;通过τ1和τ2可得待测光学元件的表面增透膜剩余反射率R。本发明具有结构简单,测量精度高,系统成本低等优点。 |
交易流程
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