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γ-LiAlO2/α-Al2O3复合衬底材料的制备方法

  • 申请号:CN03129602.5
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN1476047
  • 公开(公开)日:2004.02.18
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 γ-LiAlO2/α-Al2O3复合衬底材料的制备方法
申请号 CN03129602.5 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN1476047 公开(授权)日 2004.02.18
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 徐军;王海丽;周圣明;杨卫桥;彭观良;周国清;蒋成勇;宋词;杭寅;司继良;赵广军
主分类号 H01L21/00 IPC主分类号 H01L21/00;H01L33/00
专利有效期 γ-LiAlO2/α-Al2O3复合衬底材料的制备方法 至γ-LiAlO2/α-Al2O3复合衬底材料的制备方法 法律状态 授权
说明书摘要 一种γ-LiAlO2/α-Al2O3复合衬底材料的制备方法,包括如下具体步骤:在铂金坩埚内,放置有带气孔的LiAlO2和Li2O混合料块;将双面抛光或单面抛光的蓝宝石α-Al2O3晶片置于或悬于铂金丝上,加上覆盖有LiAlO2和Li2O混合粉料和热电偶的坩埚盖,坩埚顶部加铂金盖密闭,置于电阻炉中;该电阻炉加热升温至1000~1400℃左右,恒温20~100小时,Li2O扩散到α-Al2O3晶片中,降温后可得到LiAlO2/α-Al2O3复合衬底材料。本发明克服了α-Al2O3衬底晶格失配度大和难以获得大尺寸高质量LiAlO2单晶衬底等问题,可用于生长高质量InN-GaN薄膜外延生长。

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