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振镜式激光直写光刻机

  • 申请号:CN201110412777.5
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN102495534A
  • 公开(公开)日:2012.06.13
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 振镜式激光直写光刻机
申请号 CN201110412777.5 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102495534A 公开(授权)日 2012.06.13
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 郝春宁;徐文东;范永涛;刘前
主分类号 G03F7/20(2006.01)I IPC主分类号 G03F7/20(2006.01)I;G02B26/10(2006.01)I
专利有效期 振镜式激光直写光刻机 至振镜式激光直写光刻机 法律状态 授权
说明书摘要 一种振镜式激光直写光刻机,采用模块化设计,由激光扫描模块、自动聚焦模块、样品台模块、位移台模块、样片监测模块和控制模块组成。本发明采用双振镜激光扫描、大范围二维位移台,可实现高速、大范围、高精度的激光直写光刻,适于快速经济地制作微纳结构。

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