专利详情

专利名称	一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置
申请号	CN201120352733.3	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN202259195U	公开（授权）日	2012.05.30
申请（专利权）人	中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心	发明（设计）人	陈波;黄成强;李超波;饶志鹏
主分类号	H01L21/3065(2006.01)I	IPC主分类号	H01L21/3065(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I
专利有效期	一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置至一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置	法律状态	专利申请权、专利权的转移
说明书摘要	一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置，包括主支架和副支架，所述主支架上安装有刻蚀腔和分子泵，所述刻蚀腔与分子泵连接，所述副支架上安装有预真空腔，所述预真空腔与刻蚀腔连接，所述预真空腔内安装有将片盘输送到刻蚀腔的机械手，所述预真空腔与刻蚀腔均与抽真空用的机械泵连接；所述刻蚀腔的下方安装有可带动片盘在刻蚀腔内运动的下电极，所述下电极与RIE射频电源连接；所述刻蚀腔和预真空腔上均连接有进气管道，所述进气管道与控制其通气的通气系统连接，所述刻蚀腔的进气口上连接有ICP射频电源；所述机械手与下电极分别与带动其运动的伺服电机连接，所述伺服电机均与控制其运动的伺服电机控制器连接。