专利详情

专利名称	用于细胞图案化生长的基底、制备方法及其应用
申请号	CN201010544606.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102465119A	公开（授权）日	2012.05.23
申请（专利权）人	国家纳米科学中心	发明（设计）人	蒋兴宇;孙康;谢赟燕;马万顺
主分类号	C12N11/14(2006.01)I	IPC主分类号	C12N11/14(2006.01)I;C12N11/08(2006.01)I
专利有效期	用于细胞图案化生长的基底、制备方法及其应用至用于细胞图案化生长的基底、制备方法及其应用	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供了一种用于细胞图案化生长的基底，所述基底包含细胞不能粘附的惰性表面和在所述惰性表面上的图案，该图案由允许细胞粘附的物质形成，且所述惰性表面没有全部被所述图案覆盖。本发明还提供了所述基底的制备方法，该方法采用一步印刷步骤即可制备所述基底，极大地简化了现有制备用于细胞图案化生长基底的方法，并且拓宽了所使用基底的范围。本发明还提供了所述基底在用于细胞图案化生长中的应用。